專利申請中技術

電磁吸收型
BDD 熱擴散片

下一代金剛石熱擴散片,在消散極端熱負荷的同時吸收電磁干擾。1 GHz至100 GHz範圍內可調微波衰減(0.1–5.0 dB/mm)。

為什麼金剛石優於金屬封裝

標準金屬蓋會反射EMI,造成毀滅性的內部串擾。我們的BDD基板吸收電磁能量並立即將其轉化為熱量。

電磁吸收

與金屬蓋將高頻信號反彈到晶片上不同,我們的BDD蓋吸收雜散EMI並防止空腔諧振。

超高熱導率

1000–2000 W/m·K熱導率,將極端熱負荷從矽結處散去,且無電傳導。

可調衰減

通過精確控制硼摻雜濃度,將微波衰減從0.1 dB/mm調整到5.0 dB/mm。

工作原理

從絕緣體到微波吸收體

普通純金剛石是電絕緣體,對微波完全透明,不提供任何EMI衰減。為解決下一代AI數據中心面臨的極端熱管理和信號完整性問題,我們工程設計了一種可用作可調微波衰減器的金剛石板。

通過在我們的專有專利申請中CVD工藝中精確控制硼摻雜濃度,我們創造了一種金剛石板,可在1 GHz至100 GHz範圍內吸收電磁能量並即時將其轉化為熱量,同時作為超高熱導率熱擴散器工作。

摻雜量與效能權衡

低摻雜 1E18 atoms/cm³
衰減量 0.1 dB/mm
熱導率 1800–2000 W/m·K
高摻雜 1E21 atoms/cm³
衰減量 5.0 dB/mm
熱導率 1000–1500 W/m·K
常見外形尺寸

行業標準匹配尺寸

雖然我們專精於定製DFM以滿足您的精確外形要求,但我們經常製造這種專利申請中的BDD技術,尺寸專為行業標準封裝設計。

尺寸 (mm) 厚度 目標應用
10 × 10 至 20 × 20 100–300 µm 5G/6G 毫米波ASIC、矽光子(SiPh)晶片 Bare-die RF放大器
25 × 25 至 40 × 40 200–400 µm PCIe Gen 5/6 交換機、NVLink 重定時器、SerDes 封裝蓋
50 × 50 至 80 × 80 300–500 µm AI GPU 蓋(OAM/SXM 外形)、51.2T 網絡交換機ASIC
最大 100mm 晶圓級 100–500 µm 晶圓級封裝、多晶片模組(MCM) 基板

匹配部件與應用

為AI和通信基礎設施中最苛刻的高頻、高功率應用而設計。

AI 處理器和 GPU 封裝蓋

1000W+ AI 加速器的裸晶片直裝蓋

標準金屬蓋將高頻信號反射回晶片。我們的BDD蓋吸收雜散EMI,防止空腔諧振和內部串擾,同時將極端熱負荷從矽結處散去。

高速互連

PCIe Gen 5/6 和 NVLink SerDes 及重定時器晶片

吸收關鍵1–100 GHz頻段內的信號噪聲,確保最大資料傳輸量和信號完整性,且不犧牲高速開關所需的熱預算。

5G/6G 毫米波 ASIC

電信基站晶片封裝

用單塊整體金剛石層替代笨重的多組件組件(獨立散熱器 + 微波吸收器),大幅縮小模組尺寸。

需要定製尺寸?

我們為精確外形提供定製DFM製造。發送您的CAD圖紙,我們將在48小時內提供報價。